Donnerstag, 17. September 2020, 17 Uhr
Design and Ideology

Gespräch zwischen Alexander Alberro (Virginia Bloedel Wright ‘51 Professor für Kunstgeschichte, Barnard College / Columbia University, New York), Dan Graham (Künstler und Autor, New York), Caitlin MacBride (Künstlerin, New York), Cameron Rowland (Künstler, New York), moderiert von John Miller
Online-Präsentation, in englischer Sprache



Design gilt als etwas, das sich gegenständlich, gebaut und physisch in der Welt manifestiert, während Ideologie als subjektiv, mental und immateriell konstituiert angenommen wird. Die Paneldiskussion anlässlich der Ausstellung
Lost in America nimmt die Gemeinsamkeiten und die gegenseitige Durchdringung beider Felder in den Blick. Alexander Alberro, Dan Graham, Caitlin MacBride und Cameron Rowland sprechen mit John Miller darüber, welchen Einfluss Ideologie auf die Warenproduktion in den USA hat und wie die Produktionskraft der Vereinigten Staaten von Amerika zu bestimmten Ideologien wie etwa Fordismus, amerikanischem Exzeptionalismus oder Isolationismus geführt hat. Nicht zuletzt geht es dabei auch um die Frage, wie sich die Dialektik zwischen Design und Ideologie im Informationszeitalter sowie während einer sich immer weiter verschärfenden Klimakrise gestaltet.